五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法

基本信息

申请号	CN201610140129.1	申请日	-
公开（公告）号	CN105607435B	公开（公告）日	2017-10-24
申请公布号	CN105607435B	申请公布日	2017-10-24
分类号	G03F9/00(2006.01)I	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	张利斌;董立松;苏晓菁;韦亚一	申请（专利权）人	广东中科芯发展科技有限公司
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	赵秀芹;王宝筠
地址	100029 北京市朝阳区北土城西路3号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法。在该五级衍射光栅结构包括晶圆以及形成于晶圆上的光栅图形结构。光栅图形结构由光栅精细结构单元组成，光栅精细结构单元的宽度为一个光栅周期，所述光栅精细结构单元在宽度方向上等分为20个区域，每个区域上设置有第一图形结构1st或第二图形结构2nd；1st和2nd在光栅图形结构的宽度方向上按照不同顺序排列形成不同的光栅精细结构单元，所述光栅精细结构单元为第一光栅精细结构单元、第二光栅精细结构单元或第三光栅精细结构单元。该光栅结构能够有效提高光栅的衍射光强，增大光刻时在对准光栅之上涂覆材料及其厚度的可选择范围，降低对准不确定性范围，提高精确对准精度。