七级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法

基本信息

申请号 CN201610140991.2 申请日 -
公开(公告)号 CN105549138B 公开(公告)日 2017-10-24
申请公布号 CN105549138B 申请公布日 2017-10-24
分类号 G02B5/18(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I 分类 光学;
发明人 张利斌;董立松;苏晓菁;韦亚一 申请(专利权)人 广东中科芯发展科技有限公司
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 王宝筠
地址 510700 广东省广州市黄埔区(广州高新技术产业开发区)开源大道136号自编A栋102室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种七级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法。在该七级衍射光栅结构包括晶圆以及形成于晶圆上的光栅图形结构。光栅图形结构由光栅精细结构单元组成,光栅精细结构单元的宽度为一个光栅周期,所述光栅精细结构单元在宽度方向上等分为28个区域,每个区域上设置有第一图形结构1st或第二图形结构2nd;1st和2nd在光栅图形结构的宽度方向上按照不同顺序排列形成不同的光栅精细结构单元,所述光栅精细结构单元为第一至第七光栅精细结构单元的任一种。该光栅结构能够有效提高光栅的衍射光强,增大光刻时在对准光栅之上涂覆材料及其厚度的可选择范围,降低对准不确定性范围,提高精确对准精度。