一种去除金属硅中硼杂质的方法
基本信息
| 申请号 | CN201510146885.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104773736A | 公开（公告）日 | 2015-07-15 |
| 申请公布号 | CN104773736A | 申请公布日 | 2015-07-15 |
| 分类号 | C01B33/037(2006.01)I | 分类 | 无机化学; |
| 发明人 | 刘立新 | 申请（专利权）人 | 杭州太能硅业有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 邱启旺 |
| 地址 | 311228 浙江省杭州市萧山临江高新技术产业园区经六路1287号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种去除硅液中硼杂质的方法，该方法先向硅液中喷吹Ti或Zr颗粒；所述Ti与硅液的质量之比为0.1-5：100，Zr与硅液的质量之比为0.1-5：100。使Ti或Zr进入硅液熔体里面，充分与杂质硼反应生成TiB2或ZrB2，TiB2和ZrB2均比硅液密度大，在硅液中下沉，自然分离。熔液中剩余的Ti或Zr，通过加入SiO2和Na2O以质量比1:1组成的混合物，通过氧化反应去除。然后倒去硅液上的悬浮层，得到去除了硼杂质的硅液。该方法硼去除率高、操作简单易行，没有二次污染。 |
