一种去除金属硅中硼磷杂质的方法
基本信息
| 申请号 | CN201510146936.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104843710A | 公开（公告）日 | 2015-08-19 |
| 申请公布号 | CN104843710A | 申请公布日 | 2015-08-19 |
| 分类号 | C01B33/037(2006.01)I | 分类 | 无机化学; |
| 发明人 | 刘立新 | 申请（专利权）人 | 杭州太能硅业有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 杭州太能硅业有限公司 |
| 地址 | 311228 浙江省杭州市萧山临江高新技术产业园区经六路1287号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种去除硅液中硼磷杂质的方法，该方法是先将Ar2、H2O、HCL和SiCL4的混合气体与SiO2和Na2CO3的混合物进行混合，然后将上述气渣混合物以亚音速喷吹到待处理的硅液中，气体与硅液中的硼磷反应，达到除硼磷杂质的目的。该方法硼和磷去除率高、操作简单易行，没有二次污染。 |
