一种光刻胶的清洗方法
基本信息
申请号 | CN202110879426.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113467201A | 公开(公告)日 | 2021-10-01 |
申请公布号 | CN113467201A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 夏建文;黄明起;叶振文;刘彬灿;易玉玺;刘献伟 | 申请(专利权)人 | 深圳市化讯半导体材料有限公司 |
代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
地址 | 518000广东省深圳市宝安区福永街道白石厦社区东区龙王庙工业区6栋101 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种光刻胶的清洗方法。所述清洗方法包括如下步骤:(1)将基板包含光刻胶的一面置于紫外光下老化,得到经老化处理的基板;(2)使用光刻胶清洗剂对步骤(1)得到的经老化处理的基板进行清洗,完成基板上光刻胶的清洗;所述光刻胶清洗液包括如下重量份数的组分:季胺氢氧化物1~20份、醇胺1~10份、表面活性剂0.01~10份和溶剂60~98份。本发明通过采用对包含光刻胶基板的先进行紫外光照射老化处理,再使用光刻胶清洗剂进行清洗的方法,在不增大光刻胶清洗剂碱性且不使用其他腐蚀抑制剂的情况下,完成基板上光刻胶的清洗,得到了表面无光刻胶残留、无腐蚀的基板。 |
