一种光刻胶的清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN202110879426.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113467201A | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN113467201A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | G03F7/42（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 夏建文;黄明起;叶振文;刘彬灿;易玉玺;刘献伟 | 申请（专利权）人 | 深圳市化讯半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区福永街道白石厦社区东区龙王庙工业区6栋101 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种光刻胶的清洗方法。所述清洗方法包括如下步骤：（1）将基板包含光刻胶的一面置于紫外光下老化，得到经老化处理的基板；（2）使用光刻胶清洗剂对步骤（1）得到的经老化处理的基板进行清洗，完成基板上光刻胶的清洗；所述光刻胶清洗液包括如下重量份数的组分：季胺氢氧化物1～20份、醇胺1～10份、表面活性剂0.01～10份和溶剂60～98份。本发明通过采用对包含光刻胶基板的先进行紫外光照射老化处理，再使用光刻胶清洗剂进行清洗的方法，在不增大光刻胶清洗剂碱性且不使用其他腐蚀抑制剂的情况下，完成基板上光刻胶的清洗，得到了表面无光刻胶残留、无腐蚀的基板。 |
