一种在真空环境中进行离子溅射镀膜的工艺方法
基本信息
| 申请号 | CN201810722529.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110670033A | 公开（公告）日 | 2020-01-10 |
| 申请公布号 | CN110670033A | 申请公布日 | 2020-01-10 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01） | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 高富堂 | 申请（专利权）人 | 定西中庆玄和玻璃科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 743000 甘肃省定西市安定区循环经济产业园滨河东路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种在真空环境中进行离子溅射镀膜的工艺方法，包括以下步骤：第一步，打开总电源，启动总控电，真空镀膜腔室打开后，放入基片，确定基片的位置和靶的位置；第二步，启动机械泵，启动分子泵；第三步，打开加热控温电源关复合真空计，开启电离真空计，通氩气，流量20L/min，打开气路阀，将流量计稳定后打开离子源，启动清洗；第四步，清洗完成后，按离子源参数调节相反的顺序，将参数归零，关闭离子源，将流量计置于关闭档；第五步，调节控制电离真空计示数1Pa，调节直流或者射频电源到所需功率，开始镀膜。通过本发明所述的工艺方法，能够有效的抑制靶材表面拉弧放电，溅射沉积的稳定好，实用性强，具有广阔的市场空间。 |
