一种在真空环境中进行离子溅射镀膜工艺中使用的挡板
基本信息
| 申请号 | CN201821046159.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208414537U | 公开（公告）日 | 2019-01-22 |
| 申请公布号 | CN208414537U | 申请公布日 | 2019-01-22 |
| 分类号 | C23C14/46 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 高富堂 | 申请（专利权）人 | 定西中庆玄和玻璃科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 743000 甘肃省定西市安定区循环经济产业园滨河东路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种在真空环境中进行离子溅射镀膜工艺中使用的挡板，包括真空镀膜腔室、等离子发射装置、辅助等离子发射装置、转盘和靶材，所述等离子发射装置设置于真空镀膜腔室的一侧，等离子发射装置的发射口对准转盘，所述转盘设置于真空镀膜腔室的内部的底面，靶材设置于转盘的下底面，其特征在于：还包括挡板，所述挡板固定于等离子发射装置内部的上顶面上，挡板正对于靶材设置，挡板正对靶材的一面固定一层凹凸不平的糙面层；辅助等离子发射装置为四个，分别固定于真空镀膜腔室的四个侧面上，辅助等离子发射装置的发射端口正对糙面层。本实用新型结构简单、靶材的利用率高、实用性强，具有广阔的市场空间。 |
