膜层厚度的确定方法
基本信息
| 申请号 | CN201910147257.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111623714A | 公开（公告）日 | 2020-09-04 |
| 申请公布号 | CN111623714A | 申请公布日 | 2020-09-04 |
| 分类号 | G01B11/06(2006.01)I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 朱伟;张继凯;程晓龙;赵阳 | 申请（专利权）人 | 汉瓦技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张琳琳 |
| 地址 | 510670 广东省广州市黄埔区科学大道111号附楼229房（仅限办公） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光学镀膜技术领域，具体涉及膜层厚度的确定方法，该方法包括提供至少一个平面标准件；所述平面标准件包括至少一层镀膜层，各所述镀膜层与待测试件对应的镀膜层采用相同的镀膜工艺形成；根据所述平面标准件的参数确定所述待测试件的每层镀膜层的厚度，所述参数包括所述镀膜层厚度及光学参数中一个。利用平面标准件作为待测试件每层镀膜层的厚度的确定基准，由于平面标准件与待测试件对应的镀膜层采用相同的镀膜工艺且平面标准件的镀膜层厚度或光学参数可以测定得到，通过平面标准件的镀膜层厚度或光学参数就可以确定出待测试件的每层镀膜层的厚度。即利用平面标准件的膜层厚度来反推待测试件的膜层厚度，达到质量管控、品质管理的目的。 |
