晶圆刻蚀装置
基本信息
申请号 | CN201420556400.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN204289403U | 公开(公告)日 | 2015-04-22 |
申请公布号 | CN204289403U | 申请公布日 | 2015-04-22 |
分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 汪良恩;汪曦凌 | 申请(专利权)人 | 池州市九华恒昌产业投资有限公司 |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 安徽安芯电子科技有限公司;安徽安芯电子科技股份有限公司 |
地址 | 247000 安徽省池州市经济技术开发区金光大道88号富安电子信息产业园10号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种晶圆刻蚀装置,包括:载体,所述载体具有多个可承载晶圆的卡槽,所述晶圆可在所述卡槽内转动;位于所述载体以及所述晶圆底部的传动装置,所述传动装置带动所述晶圆匀速转动,使所述晶圆与所述载体内的刻蚀溶液均匀反应。由于传动装置能够带动晶圆匀速转动,因此,就相当于将晶圆放置在流动的刻蚀溶液中,这样与晶圆反应后的废弃溶液就能够及时流动更新,从而提高了生产效率,缩短了生产周期;并且,由于晶圆与刻蚀溶液相对匀速运动,因此,晶圆各个区域的反应速度趋于一致,从而达到保证晶圆沟槽刻蚀均匀性的目的。 |
