一种金属掩膜板结构及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202111203364.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113943918A | 公开(公告)日 | 2022-01-18 |
申请公布号 | CN113943918A | 申请公布日 | 2022-01-18 |
分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;H01L51/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 隋鑫;宋平;朱海彬;单为建;苏长恒 | 申请(专利权)人 | 山东奥莱电子科技有限公司 |
代理机构 | 济南舜源专利事务所有限公司 | 代理人 | 李舜江 |
地址 | 276800山东省日照市高新区创业服务中心2号楼804室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种金属掩膜板结构及其制备方法,所述的金属掩膜板结构包括INVAR合金材料基板,对INVAR合金材料基板的两侧面通过蚀刻溶液作蚀刻处理,蚀刻处理后的INVAR合金材料基板的两侧面形成微孔结构,微孔结构的尺寸为60‑200nm,微孔结构的比表面积为650‑750m2/g,孔隙率为55%‑75%。 |
