一种等离子体处理装置及其上电极组件的调节方法
基本信息
申请号 | CN202010967087.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114188206A | 公开(公告)日 | 2022-03-15 |
申请公布号 | CN114188206A | 申请公布日 | 2022-03-15 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 杨金全;黄允文;吴狄;王明明 | 申请(专利权)人 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
代理机构 | 上海元好知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐雯琼;张妍 |
地址 | 201201上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种等离子体处理装置及其上电极组件的调节方法,该装置包含:真空反应腔,其由反应腔腔体和设有通孔的腔体端盖包围而成;下电极组件,与通孔中心对称;上电极组件,贯穿腔体端盖的通孔,上电极组件的边缘与通孔的侧壁之间设有间距;若干个加热组件,用于加热上电极组件,使上电极组件受热膨胀直至上电极组件边缘周向与通孔的侧壁接触;若干个支撑组件,用于实现上电极组件和腔体端盖的分离和固定,当加热组件处于加热状态时,上电极组件和腔体端盖可发生相互位移。其优点是:该装置将加热组件、支撑组件等相结合,利用热胀冷缩的原理,实现上电极组件的对中调节,不需要另外安装其他复杂的结构,结构简单,调节方便。 |
