一种等离子体处理装置及其方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种等离子体处理装置及其方法

基本信息

申请号	CN202010987374.2	申请日	-
公开（公告）号	CN114203506A	公开（公告）日	2022-03-18
申请公布号	CN114203506A	申请公布日	2022-03-18
分类号	H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L21/3065（2006.01）I	分类	基本电气元件;
发明人	赵馗;杜若昕;吴狄;倪图强	申请（专利权）人	中微半导体设备（上海）股份有限公司
代理机构	上海元好知识产权代理有限公司	代理人	徐雯琼;张妍
地址	201201上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种等离子体处理装置及其方法，该装置包含：真空反应腔，其内具有下电极组件和可移动上电极组件；若干个升降装置与可移动上电极组件连接以使其升降，升降装置包含支撑柱和驱动装置，驱动装置用于驱动支撑柱以使可移动上电极组件升降；若干个气体通道，分别由真空反应腔外部延伸经过真空反应腔底部、支撑柱内部、可移动上电极组件以将工艺气体注入真空反应腔内；若干个导电可伸缩密封结构，分别设置于支撑柱内且环绕气体通道的周围。其优点是：将升降装置、气体通道和密封结构相结合，真空反应腔顶部多次开关也不会影响可移动上电极组件，更容易保持所述可移动上电极组件和晶圆、下电极组件之间的同心度，保证了斜边刻蚀的工艺效果。