一种室温下AZO导电膜的连续式磁控溅射镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN201410241523.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103981502A | 公开（公告）日 | 2014-08-13 |
| 申请公布号 | CN103981502A | 申请公布日 | 2014-08-13 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘战合;周钧;韩汇如;孙斌 | 申请（专利权）人 | 江苏汇景薄膜科技有限公司 |
| 代理机构 | 江苏银创律师事务所 | 代理人 | 江苏汇景薄膜科技有限公司 |
| 地址 | 225312 江苏省泰州市海陵区九龙镇新能源产业园区龙园路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种室温下AZO导电膜的连续式磁控溅射镀膜方法，在连续式磁控溅射设备上，在合适的镀膜环境下，通过镀膜设备工艺参数优化，可在玻璃、PET、PI等上进行AZO导电膜的镀膜，实现室温下AZO导电膜的连续式生，本发明在16～26℃的温度环境下实现AZO导电膜的镀膜过程，无须进行加热，避免了加热引起的基材变形甚至扭曲起来，导致薄膜不均匀，可明显提高AZO薄膜的均匀性，并有效提高AZO薄膜的附着力，同时增加的基材的可选范围，降低了镀膜的成本。 |
