一种浸没式光刻机浸液温控装置
基本信息
| 申请号 | CN202010994847.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112034689B | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN112034689B | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李小平;曹迪 | 申请（专利权）人 | 武汉智能装备工业技术研究院有限公司 |
| 代理机构 | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 | 代理人 | 廖盈春;曹葆青 |
| 地址 | 430074 湖北省武汉市珞喻路1037号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种浸没式光刻机浸液温控装置，包括：第一级温控模块通过对PCW循环回路的加热功率和流量控制，调节PCW循环回路中PCW的温度，并通过将PCW循环回路和UPW循环回路热交换来调节从光刻机中回收的UPW的温度，使UPW的温度达到稳定的设定值；第二级温控模块将经第一级温控模块调节温度后的UPW液体分成两路UPW通路，并基于两路UPW通路热负载的差异调节两路UPW的温度使得两路UPW的温度均温度保持在设定值；第二级温控模块流出的两路UPW注入所述浸没式光刻机，使得浸没式光刻机能够基于UPW浸没流场工作。本发明控制PCW的温度和流量与浸液进行热交换，对PCW温度波动具有缓冲能力。 |
