一种多晶硅PECVD三层镀膜工艺制备方法

基本信息

申请号 CN201610408537.0 申请日 -
公开(公告)号 CN106098838A 公开(公告)日 2016-11-09
申请公布号 CN106098838A 申请公布日 2016-11-09
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;C23C16/44(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 刘晓龙;刘成;吴肖;孙立国 申请(专利权)人 浙江昂成新能源有限公司
代理机构 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 代理人 沈相权
地址 311227 浙江省杭州市萧山区南阳街道阳城路5号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种三层镀膜工艺,尤其涉及一种多晶硅PECVD三层镀膜工艺制备方法。按以下步骤进行:PECVD分析→PECVD作用→PECVD膜的特点→PECVD三层镀膜工艺制备方法→PECVD三层膜优势。一种多步扩散实现高效太阳能电池制备方法提高产品质量,进一步提升操作效率。