一种功能膜生产工艺及设备
基本信息
| 申请号 | CN202110557699.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113278937A | 公开（公告）日 | 2021-08-20 |
| 申请公布号 | CN113278937A | 申请公布日 | 2021-08-20 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;G02B1/14（2015.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李俊华;王文;丁家昌;艾其波 | 申请（专利权）人 | 安徽亦高光电科技有限责任公司 |
| 代理机构 | 南昌恒桥知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 杨志宇 |
| 地址 | 237000安徽省六安市舒城县杭埠镇经济开发区杭埠园区产投产业园D3幢（香樟大道与石兰路交叉口） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种功能膜生产工艺及设备，通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层，包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有360°旋转平台，所述真空室绕圆周依次设置有真空过渡腔体、真空镀膜腔体，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路，该功能膜在材料和设备的改进下使得莫氏硬度能够达到大于5.5，现在的盖板类产品镀功能膜层的需求越来越多，在同样光学要求上硬度越高意味着镀膜产品更有市场竞争力。 |
