一种高效、高精度硅片抛光组合物及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202111420369.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114032033A | 公开（公告）日 | 2022-02-11 |
| 申请公布号 | CN114032033A | 申请公布日 | 2022-02-11 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I;H01L21/304（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 王庆伟;卞鹏程;崔晓坤;徐贺;李国庆;王永东;王瑞芹 | 申请（专利权）人 | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 264006山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种高效、高精度硅片抛光组合物及其制备方法和应用，所述硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶为主抛光磨料，并添加有纳米氧化亚硅粒子作为辅助磨料。通过在碱性二氧化硅水溶胶中加入纳米级氧化亚硅颗粒，能够实现高硅片抛光速率及抛光后硅片表面低的表面粗糙度，与现有技术相比，具有显著优势。 |
