一种高洁净度抛光片的制备工艺
基本信息
| 申请号 | CN202111075148.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113808918A | 公开（公告）日 | 2021-12-17 |
| 申请公布号 | CN113808918A | 申请公布日 | 2021-12-17 |
| 分类号 | H01L21/02（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 张琪;代冰;胡碧波;李博;王鹏 | 申请（专利权）人 | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 264006山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种高洁净度抛光片的制备工艺，包括如下步骤：在洁净的待抛片背面均匀涂敷一层水溶性抛光蜡，将背面涂覆抛光蜡的待抛片贴敷在高温陶瓷盘上，随后进行冷却；对贴敷在陶瓷盘上的待抛片进行抛光处理，分别经历粗抛光、一次精抛光、二次精抛光，得到抛光片；对抛光片用纯水进行去蜡清洗，去除抛光片背面的抛光蜡，得到洁净的抛光片；对抛光片进行最终清洗，得到高洁净度的抛光片。利用本发明的制备工艺，最终得到的抛光片表面颗粒度可达到：＞65nm≤20颗，表面洁净度高。 |
