触持阴极离子束刻蚀机
基本信息
| 申请号 | CN96229574.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN2281555Y | 公开（公告）日 | 1998-05-13 |
| 申请公布号 | CN2281555Y | 申请公布日 | 1998-05-13 |
| 分类号 | G03F7/00 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 陈绍金 | 申请（专利权）人 | 上海华洋工贸公司 |
| 代理机构 | 上海市浦东专利事务所 | 代理人 | 上海华洋工贸公司 |
| 地址 | 200135上海市浦东杨高中路2709号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种由机框、真空室、离子源、中和器、二件台、指示表头和电源源控制柜组成的触持阴极离子束刻蚀机,其特征在于离子源的触持阴极由阴极座(1)、阴极安装支座(2)、钽管(3)、发射体(4)、触持极(5)、引出极(6)组成,增设了电子分配挡板(7)、径向流量分配器(10),还增设了由屏栅极(19)和加速极(20)组成的束流匹配栅,中和器为等离子体桥中和器,本实用新型的离子源功耗低,寿命长、工艺参数稳定,可以在反应离子束刻蚀状态下顺利地工作,刻蚀室温度低,污染小,完全满足加工多种半导体器件的需要。 |
