可配置的法拉第屏蔽体及其操作方法、等离子体处理装置
基本信息
申请号 | CN202111574139.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114695054A | 公开(公告)日 | 2022-07-01 |
申请公布号 | CN114695054A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 龙茂林 | 申请(专利权)人 | 北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
代理机构 | 北京易光知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 100176北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号8幢 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本公开提供了可配置的法拉第屏蔽体及其操作方法、等离子体处理装置。该可配置的法拉第屏蔽体包括多个肋状体。每个肋状体可以沿圆周方向彼此间隔开。此外,可配置的法拉第屏蔽体的至少一部分至少在第一位置和第二位置之间可移动,以将可配置的法拉第屏蔽体选择性地耦合到射频接地平面。当可配置的法拉第屏蔽体的至少一部分处于第一位置时,可配置的法拉第屏蔽体可与射频接地平面去耦合,使得可配置的法拉第屏蔽体电浮动。相反,当可配置的法拉第屏蔽体的至少一部分处于第二位置时,可配置的法拉第屏蔽体可被耦合到射频接地平面,使得可配置的法拉第屏蔽体电接地。 |
