等离子体处理装置的栅组件
基本信息
| 申请号 | CN202111587544.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114695055A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114695055A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 龙茂林 | 申请（专利权）人 | 北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京易光知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号8幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开提供了一种用于将工艺气体注入腔室的栅组件。栅组件包括用于将工艺气体输送到栅组件的气体入口、竖直延伸通过栅组件的至少一部分的多个喷嘴以及竖直堆叠布置的多个层。多个层包括：顶层，包括被配置为从气体入口接收工艺气体的一个或多个内部气体注入通道；底层，包括具有一个或多个注入孔口的多个内部气体注入通道，该注入孔口被配置为将水平面附近的工艺气体输送至多个喷嘴中的一个或多个喷嘴；以及一个或多个子层，被设置在顶层和底层之间，一个或多个子层中的每个子层包括随着一个或多个子层从顶层前进至底层而数量增加的内部气体注入通道。本公开还提供了等离子处理装置和处理工件的方法。 |
