具有均匀性控制的等离子体剥离工具
基本信息
申请号 | CN201880038239.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110731000B | 公开(公告)日 | 2022-06-03 |
申请公布号 | CN110731000B | 申请公布日 | 2022-06-03 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 马绍铭;弗拉迪米尔·纳戈尔尼;D·V·德塞;瑞安·M·帕库尔斯基 | 申请(专利权)人 | 北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
代理机构 | 北京易光知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 美国加利福尼亚州 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 提供了具有处理均匀性控制的等离子体剥离工具。在一个示例性实施方式中,等离子体处理设备包括处理室。该设备包括在处理室中的第一基座,其可进行操作以支撑工件。第一基座可以限定第一处理站。等离子体处理设备可以包括在处理室中的第二基座,其可进行操作以支撑工件。第二基座可以限定第二处理站。该设备可以包括设置在第一处理站上方的第一等离子体室。第一等离子体室可以与第一感应等离子体源相关联。第一等离子体室可以通过第一分离格栅与处理室隔开。该设备可以包括设置在第二处理站上方的第二等离子体室。第二等离子体室可以与第二感应等离子体源相关联。第二等离子体室可以通过第二分离格栅与处理室隔开。 |
