一种新型靶管旋转磁控溅射圆柱靶
基本信息
| 申请号 | CN200920260554.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN201545907U | 公开（公告）日 | 2010-08-11 |
| 申请公布号 | CN201545907U | 申请公布日 | 2010-08-11 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王宇;张强 | 申请（专利权）人 | 深圳市振恒昌实业有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518000 广东省深圳市龙岗区同乐村丁甲岭工业区9号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种新型靶管旋转磁控溅射圆柱靶，包括靶头部分和靶体部分；所述靶头部分包括：空心轴、靶头导水管、套接于空心转轴前端的分水器；所述靶体部分包括：与空心轴螺接的管状靶材，与靶头导水管挂接的磁轴；其特征是：所述空心轴是阶梯状空心的轴，所述大齿轮与空心轴通过螺钉固定在一起，所述磁轴包括导水管、导水管外圈套装的导磁体和磁铁；此装置采用管状靶材，中间通水冷却，并进行旋转。管内安装钕铁硼磁轴。磁铁的排布方式为导磁体的两端要和外圈磁场联接起来，形成封闭的磁场。本装置密封水，密封真空，不漏水，可以抗磁和防止生锈，靶材利用率高。 |
