掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片
基本信息
| 申请号 | CN201911164958.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112946991A | 公开（公告）日 | 2021-06-11 |
| 申请公布号 | CN112946991A | 申请公布日 | 2021-06-11 |
| 分类号 | G03F1/00;G03F1/70;G02F1/1335;G03F7/00 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 唐文静;王达兴;范刚洪;徐广军;王群;王红光 | 申请（专利权）人 | 上海仪电显示材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 唐嘉 |
| 地址 | 201108 上海市闵行区华宁路3306弄160号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片，其中，掩膜版图形的形成方法包括：提供初始图形区，所述初始图形区包括多个有序排列的像素单元格图形；采用圆弧状边界线将所述初始图形区划分为显示区和非显示区，部分所述像素单元格图形跨越所述圆弧状边界线，跨越所述圆弧状边界线的所述像素单元格图形位于所述显示区的面积不相等。本发明实施例提供的掩膜版图形的形成方法，形成的掩膜版图形，使显示区和非显示区的边界呈圆滑的圆弧设计，圆弧形状更加自然，提高了显示屏幕的美观性。 |
