一种抛光盘的水冷结构
基本信息
| 申请号 | CN202120266332.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214560121U | 公开（公告）日 | 2021-11-02 |
| 申请公布号 | CN214560121U | 申请公布日 | 2021-11-02 |
| 分类号 | B24D13/18（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 寇明虎;刘泳沣 | 申请（专利权）人 | 北京特思迪半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 101300北京市顺义区顺强路1号1幢2号楼101 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种抛光盘的水冷结构，包括冷却盘，还包括进水口、出水口和冷却水路，所述进水口设置在所述冷却盘的中心位置处，所述出水口为多个，且所述出水口环绕所述进水口均匀分布，冷却水通过所述进水口流入所述冷却水路，然后通过出水口流出，冷却水路为曲线回路并设置有狭小流动口，所述冷却水路中的挡水处都设置有坡度。该水冷结构增加了大盘的冷却面积，加快了冷却水流速度，冷却效果得到了提升。 |
