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一种具有排污功能的抛光液循环结构

基本信息

申请号 CN202120658527.9 申请日 -
公开（公告）号 CN215147876U 公开（公告）日 2021-12-14
申请公布号 CN215147876U 申请公布日 2021-12-14
分类号 B24B27/00（2006.01）I;B24B57/02（2006.01）I 分类 磨削；抛光;
发明人 寇明虎;刘泳沣 申请（专利权）人 北京特思迪半导体设备有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 101300北京市顺义区顺强路1号1幢2号楼101
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开一种具有排污功能的抛光液循环结构，包括漏液槽、连接管、排液管、排液盒、摆动槽、固定板和气动滑台滑轨，漏液槽固定安装在加工设备箱体的前侧，所述漏液槽的底部通过弯头与所述连接管的一端连接，连接管的另一端与所述排液管的一端连接，所述排液管固定安装在排液盒的上部位置，且所述排液管的另一端伸入排液盒内，所述摆动槽设置在所述排液管伸入排液盒内的出口位置处，该循环结构用于抛光液的循环回收利用，另一个排液出口与排出设备连接，用于将无法使用的抛光液进行排出处理。能够实现抛光液循环及排出。