一种溅射镀膜阴极系统
基本信息
| 申请号 | CN201821531010.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209227050U | 公开（公告）日 | 2019-08-09 |
| 申请公布号 | CN209227050U | 申请公布日 | 2019-08-09 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王策;李先林;吕勇 | 申请（专利权）人 | 华夏易能（海南）新能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京中政联科专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 华夏易能（海南）新能源科技有限公司 |
| 地址 | 570216 海南省海口市南海大道168号海口保税区管理委员会二楼213室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种溅射镀膜阴极系统，包括：旋转磁体、固定磁体和屏蔽罩；所述屏蔽罩一侧设置有开口，且所述旋转磁体和所述固定磁体设置在所述屏蔽罩内部。该系统可以消除靶材端部拐弯处刻蚀非常严重，而中部区域却相对刻蚀较浅的现象，进而提高靶材利用率；可以减少实际应用中由于磁场分布的不均匀造成靶材的刻蚀区域的不均匀性问题，从而提高靶材利用率；还可以提高镀膜层均匀性，从而提高产品质量；还具有结构简单、可靠性高、成本低等优势。 |
