光学临近修正方法、装置及电子设备
基本信息
| 申请号 | CN202110754593.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113253565B | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN113253565B | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | G03F1/36（2012.01）I;G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 王康;罗招龙;林建佑;李可玉;赵广 | 申请（专利权）人 | 南京晶驱集成电路有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 田婷 |
| 地址 | 210006江苏省南京市秦淮区江宁路5号D栋409-32号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种光学临近修正方法、装置及电子设备。通过以比符合版图掩膜设计规则的第一掩膜规则值小很多的第二掩膜规则值对主图形进行光学临近修正，以使修正后的主图形的收敛度先符合设计要求；之后，再从所述修正后符合收敛度设计要求的主图形中找出不符合第一掩膜规则值的主图形组，并对主图形组中的主图形进行适应性调整，以使调整后的主图形既满足光刻工艺窗口的设计要求，又满足收敛度的设计要求，从而避免了由于掩膜规则值的原因，导致一些特征图形的光刻工艺窗口和收敛度无法兼顾的问题，进而有效的保证了一些特殊图形的收敛度问题，并进一步提升了OPC修正过程中的准确度，以及有效提升了产品良率，最终推进了研发进度。 |
