一种光学临近效应的修正方法及系统
基本信息
| 申请号 | CN202110816830.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113281962B | 公开（公告）日 | 2021-11-02 |
| 申请公布号 | CN113281962B | 申请公布日 | 2021-11-02 |
| 分类号 | G03F1/36（2012.01）I;G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 赵广;罗招龙;李可玉;洪银 | 申请（专利权）人 | 南京晶驱集成电路有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 林凡燕 |
| 地址 | 210000江苏省南京市栖霞区迈皋桥创业园科技研发基地寅春路18号-H1105 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光学临近效应的修正方法及系统，其包括：获取特征图形，并将所述特征图形排列，形成多个矩阵模型；修正每个所述矩阵模型中的所述特征图形，并获取所述特征图形的平均修正移动量；获取设计图形，并根据所述平均修正移动量修正所述设计图形；获取所述设计图形修正后的光罩图形和边缘放置误差；判断所述边缘放置误差是否小于阈值；当所述边缘放置误差小于所述阈值时，输出所述光罩图形；当所述边缘放置误差大于等于所述阈值时，获取新的所述修正移动量，并根据新的所述正移动量修正所述设计图形。通过本发明提供的一种光学临近效应的修正方法及系统，可减少修正时间以及修正次数。 |
