一种光刻图形的仿真方法及仿真系统
基本信息
| 申请号 | CN202011135351.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112162469B | 公开（公告）日 | 2021-06-08 |
| 申请公布号 | CN112162469B | 申请公布日 | 2021-06-08 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 王康;罗招龙;赵广;魏来 | 申请（专利权）人 | 南京晶驱集成电路有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 林凡燕 |
| 地址 | 210000 江苏省南京市栖霞区迈皋桥创业园科技研发基地寅春路18号-H1105 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出一种光刻图形的仿真方法及仿真系统，包括：预设一基板厚度参数，光阻层厚度参数及掩膜版；根据所述基板厚度参数，所述光阻层厚度参数及所述掩膜版，模拟入射光照射在光阻层上，所述入射光经过所述基板反射后形成反射光，所述反射光和所述入射光形成驻波；调整预设参数，以调整所述驻波的波峰和波谷的位置；模拟显影处理，以获得所述光刻图形；判断所述驻波的波峰是否位于所述光刻图形的底部和/或判断所述基板的反射率是否小于阈值；若是，则将调整后的所述预设参数用于实验中；若否，则再次调整所述预设参数。本发明提出的光刻图形的仿真方法可以模拟光刻图形的制造过程，解决光刻图形不稳定的问题。 |
