超导带材缓冲层双面镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201920067663.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209508401U | 公开（公告）日 | 2019-10-18 |
| 申请公布号 | CN209508401U | 申请公布日 | 2019-10-18 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I; C23C14/34（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 鲁玉明; 豆文芝; 蔡传兵; 汪洋 | 申请（专利权）人 | 上海上创超导科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 | 代理人 | 上海上创超导科技有限公司 |
| 地址 | 201400 上海市奉贤区望园路2066弄4号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种超导带材缓冲层双面镀膜装置。主要解决二次镀膜二次绕带存在的生产效率低下以及会对金属基带及膜层表面产生摩擦留下划痕的技术问题。本实用新型装置包括水平间隔设置的放卷盘和收卷盘，在放卷盘的一侧设置导向轮a和导向轮b，在放卷盘的左侧设有导向轮c，该导向轮c与放卷盘下方的导向轮b在同一水平线上，在导向轮c的上方设有导向轮d，在导向轮d的水平方向设有导向轮e，导向轮e下方同一轴线上设有导向轮f，导向轮f与收卷盘外侧的导向轮g在同一水平线上，基带从放卷盘输出经过上述各个导向轮进入收卷盘，在导向轮c和导向轮d上的基带左侧设有正面镀膜装置，在导向轮e和导向轮f上的基带左侧设有反面镀膜装置。 |
