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一种电化学抛光装置及方法

基本信息

申请号	CN201911035459.4	申请日	-
公开（公告）号	CN110670117A	公开（公告）日	2020-01-10
申请公布号	CN110670117A	申请公布日	2020-01-10
分类号	C25F3/22（2006.01）; C25F7/00（2006.01）	分类	电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
发明人	范峰; 许宝霞; 蔡传兵; 郭艳群; 豆文芝; 严云涛	申请（专利权）人	上海上创超导科技有限公司
代理机构	上海浦东良风专利代理有限责任公司	代理人	上海上创超导科技有限公司
地址	201400 上海市奉贤区望园路2066弄4号楼
法律状态	-

摘要

本发明涉及一种电化学抛光装置及方法。主要解决现在抛光液利用率低、电流场不均匀等技术问题，本发明电化学抛光装置包括：横向穿设于槽体的三个电解槽，槽体两端封板设有金属基带入口和金属基带出口，三个电解槽由并排设置的两组导流板腔分割而成，两个导流板腔之间留有金属基带通道，金属基带入口、金属基带通道、金属基带出口在同一轴线上，导流板腔底部设有进液口，导流板腔封板上设有流动孔，导流板腔位于槽体侧封板下部设有排液口，槽体两端设有正电极，槽体中间侧封板上设有负电极，金属基带横向穿越槽体。本发明还公开电化学抛光方法，包括：抛光液配方，金属基带预清洗，抛光工艺设计，后清洗等。本发明可实现低能耗高效率的金属基带抛光生产。