一种传输装置镀膜设备

基本信息

申请号 CN202022115404.9 申请日 -
公开(公告)号 CN213388893U 公开(公告)日 2021-06-08
申请公布号 CN213388893U 申请公布日 2021-06-08
分类号 C23C16/54(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 孙劲松;孔凡涛;陆再超 申请(专利权)人 无锡吉易特半导体科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 214194江苏省无锡市锡山区锡北镇优谷产业园51号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉镀膜技术领域,尤其涉及一种传输装置镀膜设备,包括碳膜沉积反应腔;还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室;镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台,镀膜腔室的另一侧壁开设进料口,进料口处设有一号传送带,且一号传送带一端位于进料口处,一号传送带的另一端从而碳膜沉积反应腔的进口伸入碳膜沉积反应腔内,碳膜沉积反应腔的出口处设有镀膜单元;镀膜单元包括镀膜槽和打捞板;镀膜槽的一侧位于碳膜沉积反应腔的出口处,镀膜槽内侧壁上铰接打捞板,且打捞板的中心位置与外界的电机输出轴连接,镀膜槽的另一侧下方设有二号传送带,且二号传送带位于镀膜腔室和缓冷腔室之间;缓冷腔室用于减缓物料的冷却速度。