镀膜方法及其镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201210353668.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102899632B | 公开（公告）日 | 2015-05-20 |
| 申请公布号 | CN102899632B | 申请公布日 | 2015-05-20 |
| 分类号 | C23C14/58(2006.01)I;C23C14/48(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 唐健;范宾;三浦俊彦;渡边优;黄志飞 | 申请（专利权）人 | 东莞汇驰真空制造有限公司 |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 光驰科技（上海）有限公司;东莞汇驰真空制造有限公司 |
| 地址 | 200444 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 关于在离子辅助方式的镀膜方法中，通过离子辅助难于提高形成的薄膜的致密化效果。在镀膜腔室１０中设置固定基板的基板支架２０，使镀膜材料在基板上沉积，在基板上形成镀膜材料的薄膜；进一步,使用具有浓度梯度的离子照射基板支架２０的整个区域，离子照射薄膜,对薄膜进行致密化。 |
