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应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置

基本信息

申请号 CN201520358823.1 申请日 -
公开（公告）号 CN204720414U 公开（公告）日 2015-10-21
申请公布号 CN204720414U 申请公布日 2015-10-21
分类号 H01J37/20(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 戴秀海;余海春;龙汝磊 申请（专利权）人 东莞汇驰真空制造有限公司
代理机构 上海申蒙商标专利代理有限公司 代理人 光驰科技（上海）有限公司;东莞汇驰真空制造有限公司
地址 200444 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及微细加工技术领域，尤其是应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置，其特征在于：所述装置包括旋转轴和至少两个载物台，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可绕所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口。本实用新型的优点是：提高了离子束刻蚀系统单次开机所能刻蚀的基片总数量，降低了批量作业时离子束刻蚀系统的开停机次数，提高了离子束刻蚀系统利用率，减少了工时，满足刻蚀工作需要；同时也减少了因反复开停机对配套真空系统的不利影响，延长了真空系统的工作寿命，降低了生产成本。