一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN202110588332.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113327873B | 公开（公告）日 | 2022-07-15 |
| 申请公布号 | CN113327873B | 申请公布日 | 2022-07-15 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 刘远航;马旭;王江涛;赵德文 | 申请（专利权）人 | 华海清科股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 300350天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道9号8号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法，所述晶圆清洗装置包括清洗辊，其为圆筒状结构，所述清洗辊设置于晶圆的两侧并绕其轴线滚动；供液管，其平行于所述清洗辊并设置于晶圆的侧部，所述供液管配置有第一喷嘴和第二喷嘴；以及旋转驱动部，其设置于供液管的端部并驱动其绕轴线旋转，使得第一喷嘴和第二喷嘴喷射的清洗液能够覆盖晶圆的中心至边缘的区域；所述第一喷嘴喷射的清洗液在晶圆表面形成的流场小于所述第二喷嘴喷射的清洗液在晶圆表面形成的流场。 |
