一种基板的铜互连钴阻挡层
基本信息
| 申请号 | CN202110774652.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113278366B | 公开（公告）日 | 2022-05-20 |
| 申请公布号 | CN113278366B | 申请公布日 | 2022-05-20 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I;B24B37/04（2012.01）I;H01L21/768（2006.01）N;H01L23/522（2006.01）N | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 张力飞;王同庆;路新春 | 申请（专利权）人 | 华海清科股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100084北京市海淀区清华园1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基板的铜互连钴阻挡层，其通过包括以下步骤的化学机械抛光方法抛光：a.配置化学机械抛光液，其中，所述化学机械抛光液含有1～10％的胶体二氧化硅、1‑20mM/L的过硫酸钾、1‑20mM/L的苯并三氮唑以及余量的水和pH调节剂，使得所述抛光液pH值为10‑11；b.以100‑300mL/min的流量向化学机械抛光垫散布抛光液并对承载头施加1‑2psi的压力，对基板的铜互连钴阻挡层结构进行60‑120s的化学机械抛光作业。 |
