一种抛光温度控制装置、化学机械抛光系统和方法
基本信息
| 申请号 | CN202111247657.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113732936B | 公开（公告）日 | 2022-07-15 |
| 申请公布号 | CN113732936B | 申请公布日 | 2022-07-15 |
| 分类号 | B24B37/015（2012.01）I;B24B37/10（2012.01）I;B24B37/30（2012.01）I;B24B37/20（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 路新春;郑鹏杰;赵德文 | 申请（专利权）人 | 华海清科股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100084北京市海淀区清华园1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种抛光温度控制装置、化学机械抛光系统和方法，所述抛光温度控制装置包括第一调温机构，其包括传热辊、安装座和驱动座，所述驱动座设置于抛光设备的机台板，所述安装座设置于驱动座，所述传热辊悬挑设置于所述驱动座的一侧，传热辊的外周侧抵接于抛光垫的上侧，旋转的抛光垫驱动传热辊绕其轴线转动，以控制抛光垫及抛光液的温度；第二调温机构，其设置于晶圆传输路径中以对经由的晶圆喷射流体，控制晶圆底面的温度。 |
