一种分布式布拉格反射镜及其制作方法和设计方法
基本信息
| 申请号 | CN202010640500.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111884046B | 公开（公告）日 | 2021-11-09 |
| 申请公布号 | CN111884046B | 申请公布日 | 2021-11-09 |
| 分类号 | H01S5/183（2006.01）I;H01S5/187（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 曾磊;王肇中 | 申请（专利权）人 | 武汉光谷量子技术有限公司 |
| 代理机构 | 武汉智权专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 孟欢 |
| 地址 | 430000湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号C1-901室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及一种分布式布拉格反射镜及其制作方法和设计方法，所述分布式布拉格反射镜的制作方法包括步骤：通过非选择性干法刻蚀和选择性湿法腐蚀相结合的方式，在反射镜层内形成N组高折射率对比度的两层薄膜，其中，折射率对比度大于2。相对于现有的低折射率对比度分布式布拉格反射镜采用十组甚至更多组薄膜组合实现高反射率的技术，本申请提供的分布式布拉格反射镜的制作方法，采用少量组数的薄膜即可实现高反射率，使得制造成本较低、外延工艺控制难度小。 |
