一种晶体生产加工用循环冷却装置
基本信息
申请号 | CN202022016232.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN213067192U | 公开(公告)日 | 2021-04-27 |
申请公布号 | CN213067192U | 申请公布日 | 2021-04-27 |
分类号 | F28D7/04 | 分类 | 一般热交换; |
发明人 | 林家海 | 申请(专利权)人 | 浙江一晶科技股份有限公司 |
代理机构 | 北京化育知识产权代理有限公司 | 代理人 | 尹均利 |
地址 | 318000 浙江省台州市椒江区飞跃科创园17幢1号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型属于晶体生产领域,尤其是一种晶体生产加工用循环冷却装置,针对现有的采用冷水直接和晶体接触的方式进行冷却,冷水和晶体直接接触会影响晶体的性能,影响晶体生产加工的质量的问题,现提出如下方案,其包括底座,所述底座的顶部固定安装有冷却箱,且冷却箱上设有腔室,所述腔室的一侧内壁上固定安装有冷却通道,且冷却通道的外侧固定套设有冷却盘管,所述底座的顶部固定安装有水箱,且水箱位于冷却箱的一侧,冷却箱和冷却盘管之间密封连通有同一个循环冷却组件,本实用新型较之冷水接触式的晶体冷却装置,冷水会带走晶体热量的同时不和晶体发生接触,不会对晶体的性能造成影响,大大提高了晶体的生产质量。 |
