一种往复镀膜设备及镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202011622159.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112708867A | 公开（公告）日 | 2021-04-27 |
| 申请公布号 | CN112708867A | 申请公布日 | 2021-04-27 |
| 分类号 | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/34 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 邵海平;刘莉云;曹英朝 | 申请（专利权）人 | 广东谛思纳为新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市精英专利事务所 | 代理人 | 蒋学超 |
| 地址 | 523846 广东省东莞市长安镇沙头社区靖海西路99号B栋二楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种往复镀膜设备及镀膜方法，包括第一存储腔、镀膜腔、第二存储腔、真空泵组和传送机构，所述第一存储腔通过所述镀膜腔与所述第二存储腔连通，所述传送机构依次穿过所述第一存储腔、镀膜腔和第二存储腔，所述第一存储腔的入口设有第一真空隔离阀，所述真空泵组分别与所述第一存储腔和第二存储腔连接。本发明的有益效果在于：提供了一种结构合理，具有双储存腔的镀膜设备，通过两个储存腔中的传送机构可将多片基片来回输送，从而实现对基片进行往复镀膜，该镀膜设备装片量大，产能大，经济效益好，镀膜过程中避免了多次抽真空导致浪费时间，有效降低了生产成本，提高了生产效率，增加了企业的竞争力。 |
