一种PVD连续镀膜设备及镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202011617501.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112626485A | 公开（公告）日 | 2021-04-09 |
| 申请公布号 | CN112626485A | 申请公布日 | 2021-04-09 |
| 分类号 | C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 邵海平;刘莉云;曹英朝 | 申请（专利权）人 | 广东谛思纳为新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市精英专利事务所 | 代理人 | 蒋学超 |
| 地址 | 523846 广东省东莞市长安镇沙头社区靖海西路99号B栋二楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种PVD连续镀膜设备及镀膜方法，包括依次设置的装载腔、第一过渡腔、镀膜腔组、第二过渡腔、卸载腔和输送组件，装载腔的入口、装载腔与第一过渡腔之间、第一过渡腔与镀膜腔组之间、镀膜腔组与第二过渡腔之间，第二过渡腔与卸载腔之间以及卸载腔的出口均设有真空隔离阀，各腔室均设有对应的真空泵组，装载腔和卸载腔均设有泄气阀。本发明的有益效果在于：提供了一种具备多级真空腔结构的镀膜设备，可以大大缩短抽气/放气的时间，产品由设备的一端持续进入，从设备的另一端持续输出，实现了不间断生产，产能高，产品工艺一致性好，且产品的装卸均采用机械手，节约了人力成本，有效提高了工厂的经济效益。 |
