消除大容量光栅阵列“鬼影”的方法及系统
基本信息
申请号 | CN202110306316.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113064233A | 公开(公告)日 | 2021-07-02 |
申请公布号 | CN113064233A | 申请公布日 | 2021-07-02 |
分类号 | G02B6/02 | 分类 | 光学; |
发明人 | 李凯;徐一旻;宋珂;王月明;马俊杰 | 申请(专利权)人 | 武汉烽理光电技术有限公司 |
代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 许美红 |
地址 | 430079 湖北省武汉市东湖开发区武汉理工大学科技园 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写方法,在刻写光栅阵列的过程中,改变任意两个相邻光栅之间的距离,使得相邻间隔之差不为零。本发明可以有效消除大容量光栅阵列经过多次反射后产生的“鬼影”现象。 |
