一种低温真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202010099721.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111254405B | 公开（公告）日 | 2021-10-12 |
| 申请公布号 | CN111254405B | 申请公布日 | 2021-10-12 |
| 分类号 | C23C14/50（2006.01）I;C23C14/26（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 胡均松;吴剑斌 | 申请（专利权）人 | 江西艾芬达暖通科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 东莞市中正知识产权事务所（普通合伙） | 代理人 | 杜寅 |
| 地址 | 334000 江西省上饶市上饶经济开发区旭日片区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种低温真空镀膜装置，属于镀膜设备技术领域，包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室，所述蒸发室内底部设置有电热板，所述镀膜室侧方与真空泵相连，所述镀膜室内部设置有盛放组件，所述盛放组件包括环板以及自所述环板内侧贯穿设置并与所述环板固定连接的安装板，所述安装板中部开设有用于安装靶材的卡槽。本发明实施例中，通过第二驱动组件带动第一驱动组件上下移动，第一驱动组件带动安装板以及环板在镀膜室内部上下移动，同时在齿片与齿条的啮合效果下驱使安装板以及靶材转动，从而使得靶材的上下表面均能够与蒸发的涂料进行充分接触，提高了靶材的镀膜效率，具有镀膜效果好、质量高的优点。 |
