常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统
基本信息
| 申请号 | CN201510430778.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105887014B | 公开（公告）日 | 2019-02-19 |
| 申请公布号 | CN105887014B | 申请公布日 | 2019-02-19 |
| 分类号 | C23C14/08;C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 庄志杰;周钧;刘战合 | 申请（专利权）人 | 赛柏利安工业技术（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 江苏银创律师事务所 | 代理人 | 赛柏利安工业技术（苏州）有限公司 |
| 地址 | 上海市普陀区中江路118号天洁大厦1207室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，所述常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统包括薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统；所述薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空度腔体和高真空度腔体，所述低真空度腔体与高真空度腔体之间设置有隔板；所述薄膜真空沉积系统与所述自控卷绕系统之间设置有卷绕机隔板；所述自控卷绕系统包括卷绕机底座和自动控制机构，本发明结构简单，使用方便，工作稳定性好，能够在常温下制备，生产效率高。薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统不固定连接，完全分离，极大地减少了真空腔体的开孔和结构复杂性，使得卷绕机构约束少。 |
