一种二极管芯片清洗工艺
基本信息
| 申请号 | CN201811442303.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109616402A | 公开（公告）日 | 2019-04-12 |
| 申请公布号 | CN109616402A | 申请公布日 | 2019-04-12 |
| 分类号 | H01L21/02;C11D7/06;C11D7/04;C11D7/60 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 吴强德 | 申请（专利权）人 | 嘉兴实新企业服务有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 314001 浙江省嘉兴市南湖区耀城广场11、12幢11-301室-137 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种二极管芯片的清洗工艺。涉及清洗工艺中所用清洗液配方的改进。能进一步减少芯片侧表面金属离子，从而避免芯片在工作中会出现“爬电”现象。依次包括混酸洗、双磷洗和氨洗，氨洗时的清洗液包括氨水、水和双氧水，它们的重量比是氨水0.5份∶水1.5份∶双氧水0.5份。与以往的配方相比，本发明在氨洗液中加入了双氧水，在充分混合的情况下通过下酸管道下到酸洗盘上，酸液没过上钉头(相当于芯片上端面的夹具部件)使得反应充分，进而能使芯片侧表面的金属杂质去除得更加彻底，材料在高温下使用更加稳定，降低由于表面漏电的偏大而导致材料电性的不稳定。 |
