一种二极管腐蚀清洗工艺
基本信息
| 申请号 | CN201811441786.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109585271A | 公开（公告）日 | 2019-04-05 |
| 申请公布号 | CN109585271A | 申请公布日 | 2019-04-05 |
| 分类号 | H01L21/02（2006.01）I; H01L21/306（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 吴强德 | 申请（专利权）人 | 嘉兴实新企业服务有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 314001 浙江省嘉兴市南湖区耀城广场11、12幢11-301室-137 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种二极管腐蚀清洗工艺，所述清洗工艺依次为腐蚀、钝化、钝化杂质清洗、热水冲洗浸泡,其中腐蚀为通过化学腐蚀方式去除芯片侧面因切割而产生的损伤层,钝化为通过化学反应方式钝化芯片侧面，使芯片侧面形成钝化保护层，钝化表面杂质清洗为通过化学反应方式去有机杂质，金属离子，颗粒沾污。本发明的优点在于：添加热水冲水浸泡工艺，使得吸附在芯片钝化层表面的有机杂质、金属离子以及颗粒沾污物质因热量因素加速溶解，提升清洗效果，从而降低因芯片表面沾污而导致的产品漏电流，提升产品的良率及可靠性。 |
