一种用于SU-8光刻胶表面修饰的涂层及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010341782.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111454479A | 公开（公告）日 | 2020-07-28 |
| 申请公布号 | CN111454479A | 申请公布日 | 2020-07-28 |
| 分类号 | C08J7/12(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)N | 分类 | - |
| 发明人 | 王云兵;李高参;马博轩;杨立;邹耀中;苏云鹏;江鹏 | 申请（专利权）人 | 成都今是科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都正华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 四川大学;成都今是科技有限公司 |
| 地址 | 610064四川省成都市武侯区一环路南一段24号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于SU‑8光刻胶表面修饰的涂层及其制备方法，属于电子、生物材料技术领域，本发明用氨基化合物对SU‑8光刻胶的表面进行处理，通过氨基化合物使其表面的环氧基团开环同时将氨基化合物的活性基团接枝在SU‑8光刻胶表面，然后将亲水或疏水分子与活性基团反应而将其化学接枝在SU‑8光刻胶表面，由此赋予SU‑8光刻胶亲水或疏水性。本发明制备过程简单、易操作，对SU‑8光刻胶表面修饰，成功获得了亲水或疏水性能，克服了现有SU‑8光刻胶表面亲、疏水性能无法满足当前应用需求的缺陷，拓宽了SU‑8光刻胶在生物医疗领域的应用范围，具有良好的应用前景。 |
