反射幕布及超短焦正投影装置
基本信息
申请号 | CN202021012908.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN211956111U | 公开(公告)日 | 2020-11-17 |
申请公布号 | CN211956111U | 申请公布日 | 2020-11-17 |
分类号 | G03B21/60(2014.01)I;G03B21/602(2014.01)I | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 葛明星 | 申请(专利权)人 | 无锡视美乐科技股份有限公司 |
代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 无锡视美乐科技股份有限公司 |
地址 | 214200江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种反射幕布及超短焦正投影装置,涉及投影技术领域,本实用新型提供的反射幕布,包括:雾化层和基材,雾化层涂覆于基材的表面;雾化层具有雾度,且雾化层包括微透镜。本实用新型提供的反射幕布,可以将入射光扩散,并将反射光聚集以提高亮度和对比度,雾化层具有防眩光作用,且可以增强反射幕布表面的耐刮性能。 |
