反射幕布及超短焦正投影装置

基本信息

申请号 CN202021012908.1 申请日 -
公开(公告)号 CN211956111U 公开(公告)日 2020-11-17
申请公布号 CN211956111U 申请公布日 2020-11-17
分类号 G03B21/60(2014.01)I;G03B21/602(2014.01)I 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 葛明星 申请(专利权)人 无锡视美乐科技股份有限公司
代理机构 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 无锡视美乐科技股份有限公司
地址 214200江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供了一种反射幕布及超短焦正投影装置,涉及投影技术领域,本实用新型提供的反射幕布,包括:雾化层和基材,雾化层涂覆于基材的表面;雾化层具有雾度,且雾化层包括微透镜。本实用新型提供的反射幕布,可以将入射光扩散,并将反射光聚集以提高亮度和对比度,雾化层具有防眩光作用,且可以增强反射幕布表面的耐刮性能。