一种阳极层离子源增强PVD沉积室专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种阳极层离子源增强PVD沉积室

基本信息

申请号	CN201420688972.X	申请日	-
公开（公告）号	CN204265831U	公开（公告）日	2015-04-15
申请公布号	CN204265831U	申请公布日	2015-04-15
分类号	C23C14/32(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	付德春;田灿鑫	申请（专利权）人	湖北江海行工贸集团有限公司
代理机构	宜昌市三峡专利事务所	代理人	成钢
地址	443501 湖北省宜昌市长阳创新产业园发展大道88号
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种阳极层离子源增强PVD沉积室，在沉积室内壁上排布多个弧源，外侧加热管设在沉积室内下底板上，中心加热管设在上顶板与中心转轴相接触处；矩形阳极层离子源安装在沉积室炉门上；沉积室内设上底盘与下底盘，中心转轴穿过上底盘与下底盘与沉积室下底板相接，工件架固定在上底盘与下底盘之间。本实用新型的优点在于，利用阳极层离子源能大幅度提高气体的离化率；设挡板保护阳极层离子源，延长阳极层离子源的使用寿命；合理分布加热管，使整个沉积室内加热均匀，为薄膜的沉积提供很好的室内环境；弧源分左右四排间隔排布，工件架工位设计最优化，既提高了沉积室内的空间利用率，使一次满载镀膜的刀具数增加，也提高了镀膜效率和沉积薄膜的质量。特别具有膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。卓越的附着力可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜持有很高附着力和耐久力)。